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電子半導(dǎo)體車(chē)間空氣過(guò)濾器解決方案_磊建凈化

發(fā)布者:磊建凈化

發(fā)布時(shí)間:2021-11-16

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  電子半導(dǎo)體車(chē)間空氣過(guò)濾器解決方案半導(dǎo)體車(chē)間空氣凈化工程目標(biāo)是建立一個(gè)潔凈無(wú)塵的工作環(huán)境,防止空氣中的微粒子、有害空氣、細(xì)菌等。半導(dǎo)體生產(chǎn)流水線(xiàn)上的半成品和成品造成污染,傳統(tǒng)的通風(fēng)形式是在車(chē)間的整個(gè)天花板上布滿(mǎn)高效過(guò)濾器,整個(gè)地面為回風(fēng)柵板。如今AstroFan FFU風(fēng)機(jī)過(guò)濾單元使用自帶風(fēng)機(jī)的過(guò)濾裝置,解決了繁復(fù)的安裝和性?xún)r(jià)比問(wèn)題,是目前市場(chǎng)上一種最安靜、價(jià)格優(yōu)良的機(jī)組,為潔凈室輸送高質(zhì)量的循環(huán)空氣。


電子半導(dǎo)體車(chē)間空氣過(guò)濾器解決方案_磊建凈化


  領(lǐng)先的晶圓設(shè)備,微粒過(guò)濾和控制AMC是必須的。微粒過(guò)濾和控制AMC是高收益、低退貨率的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)首要擔(dān)心的問(wèn)題。不能很好的在潔凈室或設(shè)備中控制微?;駻MC將大大的削弱企業(yè)的經(jīng)營(yíng)利潤(rùn)。潔凈室的最主要的問(wèn)題是產(chǎn)品、工具、加工過(guò)程和氣味控制的污染 。


半導(dǎo)體車(chē)間空氣凈化通常由:初效過(guò)濾器/中效過(guò)濾器/高效過(guò)濾器三級(jí)空氣過(guò)濾的空調(diào)送風(fēng)回風(fēng)和 排風(fēng)系統(tǒng)、動(dòng)力及照明系統(tǒng)、工作環(huán)境參數(shù)的監(jiān)測(cè)報(bào)警消防、通訊系統(tǒng)、人流和物流系統(tǒng)、工藝管路系統(tǒng)等部分組成。


  傳統(tǒng)的通風(fēng)形式是在車(chē)間的整個(gè)天花板上布滿(mǎn)高效過(guò)濾器,整個(gè)地面為回風(fēng)柵板。如今AstroFan FFU風(fēng)機(jī)過(guò)濾單元使用自帶風(fēng)機(jī)的過(guò)濾裝置,解決了繁復(fù)的安裝和性?xún)r(jià)比問(wèn)題,是目前市場(chǎng)上一種最安靜、價(jià)格優(yōu)良的機(jī)組,為潔凈室輸送高質(zhì)量的循環(huán)空氣。


  用 途: 半導(dǎo)體車(chē)間空氣凈化工藝廣泛應(yīng)用于硅電子、收音機(jī)、電視機(jī)、電腦、家用電器等行業(yè)生產(chǎn)車(chē)間的空氣凈化。  


  通過(guò)用于高級(jí)半導(dǎo)體制造的完整解決方案來(lái)提高工藝良率。


  在半導(dǎo)體生產(chǎn)車(chē)間中,微污染會(huì)帶來(lái)巨大的問(wèn)題。磊建凈化提供了廣泛的解決方案-顆粒預(yù)過(guò)濾器,HEPA和ULPA過(guò)濾器以及AMC控制解決方案-可以將無(wú)塵室中的顆粒物和分子濃度降低到顆粒物的lSO1級(jí)水平和AMC的亞ppb水平。


  AMC過(guò)濾器和控制比無(wú)塵室過(guò)濾更重要


  空氣傳播的分子污染(AMC)對(duì)小尺寸半導(dǎo)體制造提出了特殊挑戰(zhàn)。酸,堿,有機(jī)物,耐火材料和摻雜劑的不良化學(xué)反應(yīng)會(huì)影響晶片表面和工藝設(shè)備的光學(xué)器件,從而在芯片生產(chǎn)過(guò)程中產(chǎn)生缺陷,并降低設(shè)備和工具的效率。


  在關(guān)鍵的潔凈室制造過(guò)程中,AMC越來(lái)越重要。隨著規(guī)格要求的提高和設(shè)備尺寸的縮小,過(guò)程控制面臨巨大的壓力。晶圓可以在工廠內(nèi)呆上一個(gè)月的時(shí)間,在交付最終產(chǎn)品之前要經(jīng)過(guò)數(shù)百個(gè)過(guò)程。該工藝鏈中任何微小的污染影響都可能對(duì)晶圓廠的整體成品率造成嚴(yán)重影響。


  另一個(gè)挑戰(zhàn)在于更大尺寸的晶圓的普遍化,這增加了單個(gè)晶圓的成本,并增加了在工具級(jí)別對(duì)納米顆粒和AMC保護(hù)的需求。此外,EUV和多圖案DUV光刻中使用的無(wú)缺陷掩模的成本不斷上漲,這給設(shè)施以及小型環(huán)境(如檢查設(shè)備和掩模庫(kù)存機(jī))的污染控制系統(tǒng)帶來(lái)了壓力。


  保護(hù)您的工藝設(shè)備和晶圓免受納米顆粒和空氣中的分子污染物的侵害


  磊建凈化解決方案在半導(dǎo)體制造環(huán)境中提供了經(jīng)過(guò)現(xiàn)場(chǎng)和實(shí)驗(yàn)室驗(yàn)證的保護(hù),包括光刻,蝕刻,擴(kuò)散,金屬化,薄膜,離子注入,檢查工具以及標(biāo)線(xiàn)片或晶圓存儲(chǔ)區(qū)。


  工藝工具空氣濾清器


  潔凈室空氣過(guò)濾器掃描儀預(yù)過(guò)濾系統(tǒng)


  設(shè)施系統(tǒng)的節(jié)能高效排氣解決方案


  顆粒物預(yù)過(guò)濾器系列可確保在補(bǔ)充空氣


  處理機(jī)組中使用最低的能量,同時(shí)防止HEPA過(guò)濾器堵塞并且不釋放硼。經(jīng)過(guò)多年的膠粘劑和介質(zhì)化學(xué)性能的發(fā)展,磊建凈化的HEPA和ULPA過(guò)濾器旨在釋放出盡可能少的有機(jī)污染物(所謂的低放氣)。用于晶圓切割的排氣系統(tǒng)以及用于通用排氣備用系統(tǒng)的氣體洗滌器可以保護(hù)環(huán)

境免受工藝污染。


  無(wú)硼合成預(yù)濾器低能量預(yù)過(guò)濾器


  低放氣的HEPA和ULPA過(guò)濾器


  灰塵收集器和氣體洗滌器,可產(chǎn)生更清潔的廢氣


  總之如今的電子半導(dǎo)體車(chē)間空氣過(guò)濾器解決方案半導(dǎo)體車(chē)間空氣凈化工程目標(biāo)是建立一個(gè)潔凈無(wú)塵的工作環(huán)境,防止空氣中的微粒子、有害空氣、細(xì)菌等。半導(dǎo)體生產(chǎn)流水線(xiàn)上的半成品和成品造成污染,傳統(tǒng)的通風(fēng)形式是在車(chē)間的整個(gè)天花板上布滿(mǎn)高效過(guò)濾器,整個(gè)地面為回風(fēng)柵板。如今AstroFan FFU風(fēng)機(jī)過(guò)濾單元使用自帶風(fēng)機(jī)的過(guò)濾裝置,解決了繁復(fù)的安裝和性?xún)r(jià)比問(wèn)題,是目前市場(chǎng)上一種最安靜、價(jià)格優(yōu)良的機(jī)組,為潔凈室輸送高質(zhì)量的循環(huán)空氣。


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